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隨著5G技術(shù)的快速發(fā)展, 陶瓷將憑借它無信號屏蔽以及良好的機(jī)械性能成為5G時代最受關(guān)的材料, 未來陶瓷的市場前景將非常廣闊. 而陶瓷產(chǎn)品的表面處理就需要到PVD鍍膜工藝. 目前, 陶瓷產(chǎn)品的鍍膜工藝以蒸鍍和濺射鍍?yōu)橹? 在陶瓷產(chǎn)品上鍍 Logo 或顏色膜以及AF處理.
案例一: KRI霍爾離子源輔助真空蒸發(fā)鍍膜, 用于鍍件表面清潔
真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下, 加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之氣化并沉淀在基片表面形成固體薄膜.
真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝流程: 鍍前準(zhǔn)備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預(yù)熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品
真空蒸發(fā)鍍膜的工藝流程圖
真空蒸發(fā)鍍膜的工藝流程中, 就是由KRI霍爾離子源產(chǎn)生的離子轟擊進(jìn)行鍍件表面清潔的離子
案例二: KRI 輔助磁控濺射鍍膜
磁控濺射鍍膜原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞, 電離出大量的氬離子和電子, 電子飛向基片. 氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材, 濺射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜.
磁控濺射鍍膜工藝流程圖
KRI 射頻主要是用在磁控濺射鍍膜工藝的第五步, 對靶材進(jìn)行轟擊.
使用伯東 KRI用于輔助5G技術(shù)-陶瓷手機(jī)蓋板鍍膜, 保證陶瓷手機(jī)蓋板鍍膜的質(zhì)量, 提高生產(chǎn)率.
通過市場證明, KRI實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的陶瓷手機(jī)蓋板鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應(yīng)力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
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