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離子刻蝕是利用眾所周知的陰極濺射效應(yīng)對表面進(jìn)行選擇性的剝離加工. 由于轟擊粒子小和離子刻蝕過程的計(jì)量極為精, 因此, 用這種方法加工表面, 使表面溶解深度在單原子層范圍內(nèi). 離子刻蝕可用來清洗, 拋光或進(jìn)行薄刻蝕. 簡單的說利用離子轟擊作用, 對材料表面進(jìn)行刻蝕的過程.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應(yīng)用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.
伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個(gè)特殊條件對于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質(zhì)可以達(dá)到優(yōu)化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應(yīng)之型號: , , , ,
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伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 大中國區(qū)總代理.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
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