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為了得到更佳性能的磁控濺射 Cu-W 薄膜, 某大學(xué)新材料研究所采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射技術(shù)在基片上沉積 Cu-W 膜.
KRI 射頻 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
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射頻型號(hào) |
RFICP380 |
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Discharge 陽(yáng)極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
上圖為磁控濺射系統(tǒng)工作示意圖
KRI 的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的. 因此伯東的KRI 考夫曼射頻 RFCIP380 被客戶采用作為 4, 5 濺射離子源.
客戶材料:
基片為φ25mmX4mm 的玻璃片, W 靶純度 99.9%, 尺寸 φ76mmX4mm, 銅靶純度 99.99%, 尺寸 φ76mmX4mm, 工作氣體為純度 99.99% 的氬氣.
運(yùn)行結(jié)果:
當(dāng) W 含量在11.1%時(shí), Cu-W 薄膜具有好的硬度和耐磨性.
伯東是德國(guó) , , , , 美國(guó) , 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) , 美國(guó) Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
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