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關于影響電路板曝光成像質(zhì)量的因素

作者:深圳市卡博爾科技有限公司 來源:kbrfpc2018 發(fā)布時間:2018-05-09 瀏覽:724

(1)光源的選擇

  在任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線,而任何一種光源也都有其自身的發(fā)射光譜曲錢。如果某種干膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發(fā)射主峰相重疊或大部分重疊,則兩者匹配良好,曝光效果{zj0}。國產(chǎn)干膜的光譜吸收曲線表明,光譜吸收區(qū)為310 ~440nm,鏑燈、高壓汞燈、碘鎵燈在310~ 440nnl波長范圍均有較大輻射強度,是干膜曝光較理想的光源。

  (2)曝光時間的控制
  在曝光過程中,干膜的光聚合反應并非一見光就完成反應,而是需要一定的曝光時間進行充分的反應,當曝光不足時,由于單體聚合的不徹底,在顯影過程中,膠膜溶漲變軟,線條不清晰,色澤暗淡,甚至月嫌,在電鍍前處理或電被過程中,膜起翹、滲鍍、甚至脫落。

  當曝光過度時會造成難于顯影,膠膜發(fā)脆,留下殘膠等弊?。徊徽_的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差,過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細,使印制蝕刻的線條變粗,反之,曝光不足使圖形電鍍的線條變粗,使印制蝕刻的線條變細。為確定曝光時間,通常推薦使用瑞斯頓17級或斯圖費21級光密度尺。


  線路板廠在曝光定位中還需注意的就是目視定位:目視定位通常適用于使用重氮底版,重氮底版呈棕色或桔紅色的半透明狀態(tài),但不透紫外光,透過重氮圖像使底版的焊盤與印制板的孔重合,用膠帶固定即可進行曝光。


  數(shù)據(jù)來源:http://

鄭重聲明:資訊 【關于影響電路板曝光成像質(zhì)量的因素】由 深圳市卡博爾科技有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫www.cqwqw.cn)證實,請讀者僅作參考,并請自行核實相關內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請你提供相關證明及申請并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會盡快處理。
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