納米二氧化硅拋光液研磨液SiO2
	13305631332,  13305631650,Qq:1830343958
	
	
	我公司系列二氧化硅拋光液產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度二氧化硅拋光液,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
	
	拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
	
	拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。
	
	技術指標:
	
		
			| 
					型號
				 | 
					外觀
				 | 
					粒徑
				 | 
					含量
				 | 
					溶劑
				 | 
					應用
				 | 
		
			| 
					VK-SP10W
				 | 
					白色乳液
				 | 
					10nm
				 | 
					30%
				 | 
					水
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-SP20W
				 | 
					白色乳液
				 | 
					20nm
				 | 
					30%
				 | 
					水
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-SP30W
				 | 
					白色乳液
				 | 
					30nm
				 | 
					30%
				 | 
					水
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-SP50W
				 | 
					白色乳液
				 | 
					50nm
				 | 
					30%
				 | 
					水
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-Sp10E
				 | 
					白色乳液
				 | 
					10nm
				 | 
					20%
				 | 
					乙二醇
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-SP30E
				 | 
					白色乳液
				 | 
					30nm
				 | 
					20%
				 | 
					乙二醇
				 | 
					精密拋光
				 | 
		
			| 
					VK-SP50E
				 | 
					白色乳液
				 | 
					50nm
				 | 
					20%
				 | 
					乙二醇
				 | 
					精密拋光
				 | 
	
	
	包裝:25kg/桶