拋光速率對平面拋光機(jī)的重要性,操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到{zd0}的拋光速率,以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織,即不會造成組織。
前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層,但損傷層也較深;后者要求使用最細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。 解決這個矛盾的{zh0}的辦法就是采用自動拋光設(shè)備。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有{zd0}的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應(yīng)當(dāng)盡可能??;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。