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平面研磨機與非接觸式研磨原理的根本區(qū)別。
1、超精密平面研磨機主要應用于亞納米級超光滑平面零件、中小型精密平面零件的超精密研磨和拋光加工。此外，通過附加工裝，東莞研磨機還可將其應用于球類和圓柱類零件的超精密研磨、拋光加工。其主要技術指標為加工工件平面度0.03μm/(50mm×50mm)，加工工件表面粗糙度Ra0.000 3μm。超精密平面研磨機具有高精度的拋光盤和運動主軸，軸向跳動精度優(yōu)于0.2μm，能使零件與拋光盤保持在一定間隙下平穩(wěn)運動。拋光盤主軸和工件主軸均為可調速的主動驅動軸，工件(上研磨盤)與拋光盤(下研磨盤)保持固定的偏心距繞各自軸線旋轉，利用上下主軸的“定偏心、同方向、同轉速”實現(xiàn)工件材料的均勻去除。在超精密平面研磨機上配有金剛石切削機構，可以對下研磨盤(用金屬錫制成)進行在線超精密螺旋線溝槽車削修整。上研磨盤直徑Φ180mm，下研磨盤直徑Φ500mm。超精密平面研磨機工藝試驗中，上、下研磨盤轉速相同，均為20r/min。
2、非接觸式超精密研磨原理是實現(xiàn)超精密研磨拋光的有效方法，因其在微小研磨粒子的撞擊和研磨液的化學作用下產生研磨作用，可獲得極高的研磨表面質量，所以具有廣泛的應用范圍。研磨時工件與研磨平板(拋光盤)不直接接觸，工件的研磨平面靠自身重量浸泡于具有微小研磨粒子的研磨液中，通過研磨平板與工件的相對運動，使研磨粒子與工件表面在近似平行的方向上發(fā)生碰撞，從而產生機械、化學的去除作用。由于研磨粒子直徑很小，在與零件表面近似平行的方向上碰撞時產生的切削力很弱，理論上能夠實現(xiàn)原子級的材料去除，同時不破壞材料的晶格組織，在被加工表面幾乎不產生變質層，故非接觸式研磨可獲得極高的零件表面加工質量。零件表面與研磨平板間存在液膜的均化效應，因此這種方法能夠獲得比其它研磨方法更高的面形精度。由于非接觸式研磨方法對材料的去除率較低，所以要求被研磨工件本身必須具有一定的精度與表面質量。在研磨前，工件研磨表面的精度應該控制在平面度1μm~3μm、表面粗糙度Ra0.4μm~Ra0.8μm的范圍內，否則可能會造成嚴重塌邊以致無法達到工藝要求，需要重磨后再研磨，甚至導致工件報廢的后果。