1、研磨后的清洗

研磨是光學玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，

少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精

度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清

洗設備大致分為兩種：

一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

 一、有機溶劑清洗采用的清洗流程如下

:  有機溶劑清洗劑（超聲波）

  水基清洗劑（超聲波）

-

市水漂洗

-

純水漂洗

-IPA

（異丙醇）脫水

-IPA

慢拉干燥。

有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。

以前的溶劑清洗劑多采用slyw或三氯乙烯。

由于slyw屬

ODS

（消耗

臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強制淘汰階段；而長期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸

性，因此會腐蝕鏡片及設備。對此，國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非

ODS

溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學玻璃；并且該系

列產(chǎn)品具備不同的物化指標，可有效滿足不同設備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中，鏡片表面有一層很難處

理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業(yè)的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)

較慢的有機溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的

研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國內(nèi)的光學玻璃專用水基清洗劑品

種較少，很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而目前國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學玻璃清洗劑，并成功地應用在國內(nèi)數(shù)家大型光學

玻璃生產(chǎn)廠，清洗效果wq可以取代進口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。

對于

IPA

慢拉干燥，需要說明的一點是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與

IPA

的純度及空氣濕度

有關，另一方面與清洗設備有較大的關系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設備廠家及用戶注意此點。

二、半水基清洗采用的清洗流程如下

:  

半水基清洗劑（超聲波）

-

市水漂洗

-

水基清洗劑

-

市水漂洗

-

純水漂洗

-IPA

脫水

-IPA

慢拉干燥

此種清洗工藝同溶劑清洗相比{zd0}的區(qū)別在于，其前兩個清洗單元：有機溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，

但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效

果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗