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KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來(lái)源:hakuto 發(fā)布時(shí)間:2023-07-13 瀏覽:38
KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜

KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜

典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜
上海伯東美國(guó) KRI 成功應(yīng)用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場(chǎng). 隨著對(duì)鍍膜品質(zhì)要求的不斷提升, 使用輔助鍍膜已經(jīng)無(wú)法滿足某些鍍膜應(yīng)用市場(chǎng), 國(guó)內(nèi)某 LED 制造商經(jīng)過(guò)我司推薦采用 RFICP 325 安裝在 DBR 生產(chǎn)設(shè)備 1650 mm 蒸鍍機(jī)中. 成功實(shí)現(xiàn)精密光學(xué)鏡頭鍍膜并通過(guò)脫膜測(cè)試!
上海伯東客戶案例: 國(guó)內(nèi)某 LED 制造商
1. 應(yīng)用: LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
2. 系統(tǒng)功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
3. 離子源: 采用美國(guó) KRI  RFICP 325.  RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界較高等級(jí),  RFICP 325 特殊的柵極設(shè)計(jì) E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 substrate holder, 無(wú)論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到高生產(chǎn)效能.
4. 功能: 通過(guò)射頻 RFICP 325 實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的 LED-DBR 無(wú)論是亮度測(cè)試, 脫膜測(cè)試, 頂針測(cè)試, 光學(xué)特性等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.
上海伯東安裝案例: KRI RFICP 325 射頻安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
上海伯東考夫曼離子源
上海伯東考夫曼離子源
KRI 測(cè)試案例: LED-DBR 脫膜測(cè)試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測(cè)試
上海伯東美國(guó) KRI 離子源
2. 測(cè)試結(jié)果
上海伯東RFICP325脫模測(cè)試

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國(guó)考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問(wèn)題; 使用上海伯東美國(guó)考夫曼離子源, 樣品無(wú)崩邊
 

上海伯東美國(guó)射頻離子源 KRI  RFICP 325 優(yōu)點(diǎn):
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 操作簡(jiǎn)易
低耗材成本, 安裝簡(jiǎn)易
上海伯東是美國(guó)考夫曼 Kaufman & Robinson, Inc  中國(guó)總代理. 美國(guó)考夫曼公司已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼或是 KDC 直流電原式考夫曼.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺(tái)灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                    

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鄭重聲明:資訊 【KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜】由 伯東企業(yè)(上海)有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫(kù)www.cqwqw.cn)證實(shí),請(qǐng)讀者僅作參考,并請(qǐng)自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請(qǐng)你提供相關(guān)證明及申請(qǐng)并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會(huì)盡快處理。
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