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某光學鏡片制造商為了使光學鏡片的拋光刻蝕速率更快更準確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 獲得均勻性更高的薄膜表面, 而采用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 用于 IBF 離子束拋光工藝.
KRI KDC 10 客戶實際安裝圖如下：
客戶基材: 100 mm 光學鏡片
離子源條件: Vb: 800 V ( 離子束電壓 ), Ib: 84 mA ( 離子束電流 ) , Va: -160 V ( 離子束加速電壓 ), Ar gas ( 氬氣 ).
Discharge: DC 熱離子
離子束流: >10 mA
離子動能:100-1200 V
柵極直徑:1 cm Φ
離子束:聚焦, 平行, 散射
流量:1-5 sccm
通氣:Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力:< 0.5m Torr
長度:11.5 cm
直徑:4 cm
中和器:燈絲
KRI KDC 10 客戶使用結(jié)果:
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離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖 |
離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖
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