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為了獲得具備電磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子輕量化材料, 但 PPS, PEEK 導電性能差、無電磁波屏蔽能力或者達不到理想的屏蔽效果, 因此, 某機構采用磁控濺射鍍膜工藝對 PPS、PEEK 等材料結構件產(chǎn)品表面進行金屬化處理.
其工藝主要分為前處理、鍍膜、后處理等三個環(huán)節(jié).
前處理需要對 PPS/PEEK 待鍍襯底面進行 Hall 清洗, 該機構采用伯東 KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對 PPS/ PEEK 襯底面進行清洗.
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型號 |
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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電壓 |
50-250V |
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電流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
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可充其他 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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氣體流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直徑 |
9.7“ |
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水冷 |
可選 |
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東經(jīng)濟型分子泵組 HiCube 30 Eco, 其技術參數(shù)如下：
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泵組型號 |
進氣法蘭 |
分子泵 |
抽速 |
極限真空 |
前級泵型號 |
前級泵 |
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Hicube 30 Eco |
DN 40 ISO-KF |
Hipace 30 |
22 |
1X10-7 |
MVP 015-2 |
1 |
運用結果：
1. KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對襯底面良好的清洗, 提高了膜層的附著力
2. 經(jīng)濟型分子泵組 HiCube 30 Eco快速將本底真空抽到 1×10-5 Pa, 并穩(wěn)定保持整個過程的真空度
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