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某大型工業(yè)薄膜制造商采用伯東 KRI 無柵霍爾離子源 eH 3000 輔助熱蒸發(fā)技術鍍制高質量光學薄膜, 以獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜, 同時獲得與基體牢固結合和優(yōu)良性能的高質量薄膜.
其工作系統(tǒng)如下圖：
KRI Gridless eH 3000最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率對比, eH 3000 是目前市場上, 提供高離子束流的.
KRI Gridless eH 3000 技術參數(shù):
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型號
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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電壓 |
50-250V |
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電流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
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可充氣體 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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氣體流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直徑 |
9.7“ |
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水冷 |
可選 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
該制造商的離子源輔助鍍膜系統(tǒng)由霍爾離子源, 電源及控制系統(tǒng)和質量流量計 3 部分組成, 如下圖：
其中霍爾離子源發(fā)射離子, 質量流量計向離子源提供氣體并保證氣流穩(wěn)定, 電源及控制系統(tǒng)向離子源供電并保證放電參數(shù)放電電壓及電流穩(wěn)定.
KRI Gridless eH 3000 運行結果：
1. 適用工業(yè)規(guī)模生產
2. 獲得良好的機械性能和光學特性的薄膜
3. 獲得與基體牢固結合和優(yōu)良性能的高質量薄膜
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