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上海某大學(xué)研究室在離子濺射制備類金剛石 Ta-C 涂層研究中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 作為濺射源
KRI 射頻 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
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射頻型號(hào) |
RFICP380 |
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Discharge 陽(yáng)極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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該實(shí)驗(yàn)以 99.9% 純度 Ti 靶和純度石墨靶為原材料, 通過離子濺射技術(shù)在硬質(zhì)合金表面制備 Ta-C涂層.
研究結(jié)果:
石墨靶濺射時(shí)間 55min 時(shí)制備的 Ta-C涂層綜合性能較優(yōu), 涂層摩擦系數(shù)較低達(dá)到 0.13, 對(duì)膜副表面形成了石墨轉(zhuǎn)移膜, 對(duì) Ta-C 涂層起到潤(rùn)滑作用.
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