化學(xué)沉銅是PCB電路板孔金屬化過程中，而孔壁鍍層的空洞是印制電路板孔金屬化常見的缺陷之一，因此解決印制電路板鍍層空洞問題是重點(diǎn)控制的一項(xiàng)內(nèi)容，但由于造成其缺陷的原因多種多樣，只有準(zhǔn)確的判斷其缺陷的特征才能有效的找出解決的方案。
1、PTH造成的孔壁鍍層空洞
（1）沉銅缸銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度
銅缸的溶液濃度是首先要考慮的。一般來說，銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度是成比例的，當(dāng)其中的任何一種含量低于標(biāo)準(zhǔn)數(shù)值的10%時(shí)都會(huì)破壞化學(xué)的平衡，造成化學(xué)銅沉積不良，出現(xiàn)點(diǎn)狀的空洞。所以優(yōu)先考慮調(diào)整銅缸的各參數(shù)。
（2）槽液的溫度
槽液的溫度對溶液的活性也存在著重要的影響。在各溶液中一般都會(huì)有溫度的要求，其中有些是要嚴(yán)格控制的。所以對槽液的溫度也要隨時(shí)關(guān)注。
（3）活化液的控制
二價(jià)錫離子偏低會(huì)造成膠體鈀的分解，影響鈀的吸附，但只要對活化液定時(shí)的進(jìn)行添加補(bǔ)充，不會(huì)造成大的問題。活化液控制的重點(diǎn)是不能用空氣攪拌，空氣中的氧會(huì)氧化二價(jià)錫離子，同時(shí)也不能有水進(jìn)入，會(huì)造成SnCl2的水解。
（4）清洗的溫度
清洗的溫度常常被人忽視，清洗的{zj0}溫度是在20℃以上，若低于15℃就會(huì)影響清洗的效果。
（5）整孔劑的使用溫度、濃度與時(shí)間
溫度有著較嚴(yán)格的要求，過高的溫度會(huì)造成整孔劑的分解，使整孔劑的濃度變低，影響整孔的效果，其明顯的特征是在孔內(nèi)的玻璃纖維布處出現(xiàn)點(diǎn)狀空洞。只有的溫度、濃度與時(shí)間妥善的配合，才能得到良好的整孔效果，同時(shí)又能節(jié)約成本。中不斷累積的銅離子濃度，也必須嚴(yán)格控制。
（6）還原劑的使用溫度、濃度與時(shí)間
還原的作用是去除去鉆污后殘留的錳酸鉀和高錳酸鉀，藥液相關(guān)參數(shù)的失控都會(huì)影響其作用，其明顯的特征是在孔內(nèi)的樹脂處出現(xiàn)點(diǎn)狀空洞。
（7）震蕩器和搖擺
震蕩器和搖擺的失控會(huì)造成環(huán)狀的空洞，這主要是由于孔內(nèi)的氣泡未能排除，以高厚徑比的小孔板最為明顯。其明顯的特征是孔內(nèi)的空洞對稱，而孔內(nèi)有銅的部分銅厚正常，圖形電鍍層（二次銅）包裹全板鍍層（一次銅）。
2、圖形轉(zhuǎn)移造成的孔壁鍍層空洞
（1） 前處理刷板
刷板的壓力過大，將全板銅和PTH孔口處的銅層被刷磨掉，使后面的圖形電鍍無法鍍上銅，從而產(chǎn)生孔口環(huán)狀空洞。其明顯的特征是孔口的銅層漸漸變薄，圖形電鍍層包裹全板鍍層。所以要通過做磨痕測試，控制刷板壓力。
（2）孔口殘膠
在圖形轉(zhuǎn)移工序?qū)に噮?shù)的控制非常重要，因?yàn)榍疤幚砗娓刹涣肌①N膜的溫度、壓力的不當(dāng)都會(huì)造成孔口的邊緣部位出現(xiàn)殘膠而導(dǎo)致孔口的環(huán)狀空洞。
（3）前處理微蝕
前處理的微蝕量要嚴(yán)格控制，尤其要控制干膜板的返工次數(shù)。主要是孔中部因電鍍均勻性的問題鍍層厚度偏薄，返工過多會(huì)造成全板孔內(nèi)的銅層減薄，而最終產(chǎn)生孔內(nèi)中部的環(huán)狀無銅。
3、圖形電鍍造成的孔壁鍍層空洞
（1）圖形電鍍微蝕
圖形電鍍的微蝕量也要嚴(yán)格的控制，其產(chǎn)生的缺陷與干膜前處理微蝕基本相同。嚴(yán)重時(shí)孔壁會(huì)大面積無銅，板面上的全板層厚度明顯偏薄。所以要定時(shí)測微蝕速率，{zh0}通過進(jìn)行DOE實(shí)驗(yàn)優(yōu)化工藝參數(shù)。
（2）鍍錫（鉛錫）分散性差
由于溶液性能差或搖擺不足等因素使鍍錫的鍍層厚度不足，在后面的去膜和堿性蝕刻時(shí)把孔中部的錫層和銅層蝕掉，產(chǎn)生環(huán)狀空洞。
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