小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD
小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控,非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD
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控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數(shù)字式功率調整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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最 大功率
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≤1200W
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最 大輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 (最 大可安裝φ50基底)
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離
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70-140mm
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蒸發(fā)溫度調節(jié)
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≤1800℃
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支持蒸發(fā)坩堝類型
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鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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可選配擴展
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機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)
數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa)
分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)
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